X射線光電子能譜技術(shù)是一種表面分析方法， 使用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內(nèi)層電子或價電子受激發(fā)射出來，被光子激發(fā)出來的電子稱為光電子，可以測量光電子的能量和數(shù)量，從而獲得待測物組成。X射線光電子能譜技術(shù)主要應(yīng)用是測定電子的結(jié)合能來鑒定樣品表面的化學(xué)性質(zhì)及組成的分析，其特點在光電子來自熒光分析X射線管表面10nm以內(nèi)，僅帶出表面的化學(xué)信息，具有分析區(qū)域小、分析深度淺和不破壞樣品的特點，廣泛應(yīng)用于金屬、無機(jī)材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究，以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。

當(dāng)產(chǎn)品表面有多層薄膜，需測量各層膜厚及成分，利用D-SIMS能準(zhǔn)確測定各層薄膜厚度及組成成分。

當(dāng)產(chǎn)品的表面存在同種元素多種價態(tài)的物質(zhì)，常規(guī)測試方法不能區(qū)分元素各種價態(tài)所含的比例，可考慮XPS價態(tài)分析，分析出元素各種價態(tài)所含的比例。

當(dāng)產(chǎn)品表面存在微小的異物，而常規(guī)的成分測試方法無法準(zhǔn)確對異物進(jìn)行定性定量分析，可選擇XPS進(jìn)行分析，結(jié)構(gòu)分析X射線管XPS能分析≥10μm直徑的異物成分以及元素價態(tài)，從而確定異物的化學(xué)態(tài)，對失效機(jī)理研究提供準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。

當(dāng)產(chǎn)品表面膜層太薄，無法使用常規(guī)測試進(jìn)行厚度測量，可選擇XPS進(jìn)行分析，利用XPS的深度濺射功能測試≥20nm膜厚厚度。

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